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题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

根据我国《集成电路布图设计保护条例》规定,布图设计无论是否登记,自创作完成之日起多少年后将不再受保护()。

A.10年

B.15年

C.20年

D.25年

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第1题
《布图设计条例》规定“商业利用”是指为()目的。

A.进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计

B.含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为

C.国家商业

D.个人公益

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第2题
在我国《集成电路布图设计保护条例》中的集成电路是指()。

A.薄膜集成电路

B.厚薄膜集成电路

C.半导体集成电路

D.半薄膜集成电路

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第3题
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计()。

A.专有权

B.所有权

C.专利权

D.著作权

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第4题
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入()的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。

A.工业生产

B.批量生产

C.商业利用

D.销售

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第5题
《与贸易有关的知识产权协议》规定的保护范围有工业设计、地理标志、集成电路布图设计。()
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第6题
《布图设计条例》规定,对于未()的布图设计不予保护。

A.公示

B.登记

C.使用

D.注册

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第7题
集成电路布图设计的保护期限是7年。()
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第8题
受保护的集成电路布图设计应当具有()。

A.独创性

B.创造性

C.开拓性

D.新颖性

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第9题
目前世界各国多半导体芯片的保护主要集中在()。

A.集成电路的布图设计

B.集成电路的构形

C.集成电路的制造工艺

D.集成电路的外观技术

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第10题
受保护的布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时,该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的()。

A.常规设计

B.公共设计

C.一般设计

D.普通设计

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