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[单选题]
光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和正性光刻，负性光刻中采用的光刻胶是（)。
A.正性光刻胶
B.正性或负性光刻胶
C.负性光刻胶
D.电子束光刻胶
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A．网络协议
B．网络操作系统类型
C．覆盖范围与规模
D．网络服务器类型与规模
计算机网络的基本分类主要有两种：一种是根据网络所使用的传输技术；另一种是根据_______。
A．网络协议
B．网络的拓扑结构
C．覆盖范围与规模
D．网络服务器的操作系统类型
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