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[主观题]

布图设计专有权的取得方式有()。

布图设计专有权的取得方式有()。

A、登记取得

B、创作或使用取得

C、申请取得

D、注册在先取得

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第1题
集成电路布图设计专有权权项有()。

A.商业运用权、签名权

B.复制权、商业运用权

C.发行权、转让权

D.签名权、发行权

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第2题
布图设计专有权的保护期为()。

A.20年

B.10年

C.30年

D.50年

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第3题
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计()。

A.专有权

B.所有权

C.专利权

D.著作权

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第4题
外国人创作的布图设计首先在中国境内投入()的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。

A.工业生产

B.批量生产

C.商业利用

D.销售

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第5题
布图设计专有权中的独创性是()创造性的结合。

A.著作权法

B.版权法

C.专利权法

D.反不正当竞争法

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第6题
集成电路布图设计专有权的限制包括()。

A.合理使用

B.反向工程

C.权利穷竭

D.善意买主

E.强制许可

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第7题
集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门()产生。

A.注册

B.公告

C.决定

D.登记

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第8题
集成电路布图设计专有权经()登记产生。

A.国务院

B.知识产权行政部门

C.各地方知识产权局商务部

D.国家发展改革委员会

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第9题
我国知识产权海关保护的适用范围:版权与著作权、商标权、地理标志权、工业品外观设计权、专
利权、集中电路布图设计权、未披露过的信息专有权。

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第10题
我国知识产权海关保护的适用范围:版权与著作权、商标权、地理标志权、工业品外观设计权、专利权、集小
电路布图设计权、未披露过的信息专有权。

A.正确

B.错误

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