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[主观题]

在我国，布图设计专有权的保护期为（)年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入

在我国，布图设计专有权的保护期为()年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起()年后，不再受保护。

A：10、15

B：10、20

C：15、20

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第1题

布图设计专有权的保护期为（）。

A.20年

B.10年

C.30年

D.50年

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第2题

我国知识产权海关保护的适用范围：版权与著作权、商标权、地理标志权、工业品外观设计权、专

利权、集中电路布图设计权、未披露过的信息专有权。

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第3题

我国知识产权海关保护的适用范围：版权与著作权、商标权、地理标志权、工业品外观设计权、专利权、集小

电路布图设计权、未披露过的信息专有权。

A．正确

B．错误

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第4题

我国知识产权海关保护适用的是版权与著作权、商标权、地理标志权、工业品外观设计权、专利权、集中电

路布图设计权、未披露过的信息专有权。

A．正确

B．错误

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第5题

外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计（）。

A.专有权

B.所有权

C.专利权

D.著作权

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第6题

外国人创作的布图设计首先在中国境内投入（）的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计专有权。

A.工业生产

B.批量生产

C.商业利用

D.销售

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第7题

布图设计专有权中的独创性是（)创造性的结合。

A.著作权法

B.版权法

C.专利权法

D.反不正当竞争法

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第8题

集成电路布图设计专有权经国务院知识产权行政部门（）产生。

A.注册

B.公告

C.决定

D.登记

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第9题

出版者依法享有的版式设计专有权，保护期为（）。

A.10年

B.15年

C.20年

D.50年

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第10题

集成电路布图设计专有权的限制包括（）。

A.合理使用

B.反向工程

C.权利穷竭

D.善意买主

E.强制许可

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第11题

集成电路布图设计专有权经（）登记产生。

A.国务院

B.知识产权行政部门

C.各地方知识产权局商务部

D.国家发展改革委员会

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